Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал: http://rep.btsau.edu.ua/handle/BNAU/15059
Назва: Площа прапорцевих листків сортів пшениці озимої залежно від технології вирощування
Інші назви: Flag leaf area of ​​winter wheat varieties depending on cultivation technology
Автори: Первушин, Вадим Валерійович
Pervushin, Vadym Valeriyovych
Ячиченко, Олександр Володимирович
Yachychenko, Oleksandr Volodymyrovych
Панченко, Тарас Валентинович
Panchenko, Taras Valentinovych
Ключові слова: пшениця озима м’яка, площа листя, прапорцеві листки, фотосинтетичний потенціал, сорт, технологія вирощування;soft winter wheat, leaf area, flag leaves, photosynthetic potential, variety, cultivation technology
Дата публікації: 23-кві-2025
Видавництво: Білоцерківський національний аграрний університет
Бібліографічний опис: Первушин В. В., Ячиченко О.В. Площа прапорцевих листків сортів пшениці озимої залежно від технології вирощування. Молодь – аграрній науці і виробництву. Інноваційні технології в агрономії, лісовому та садово-парковому господарстві, землеустрої, електроенергетиці: матеріали. Всеукраїнської науково-практичної конференції здобувачів вищої освіти, 23 квітня 2025 року. Науковий керівник: Панченко Т.В., Білоцерківський НАУ. – С. 3-4.
Короткий огляд (реферат): У роботі представлені результати досліджень площі асиміляційної поверхні прапорцевих листків в посівах сортів пшениці озимої м’якої за різних технологій вирощування. На варіантах за звичайної технології вирощування у досліджуваних сортів відмічена найменша площа прапорцевих листків 0,68-0,87 м2, встановлено, що за інтенсивної технології вирощування площа прапорцевого листя зростає до 0,89-1,19 м2 суттєво перевищуючи показники за звичайної технології.
Опис: The paper presents the results of research on the area of ​​the assimilation surface of flag leaves in crops of soft winter wheat varieties under different cultivation technologies. In the variants under the conventional cultivation technology, the smallest area of ​​flag leaves was noted in the studied varieties, 0.68-0.87 m2, it was found that under intensive cultivation technology the area of ​​flag leaves increases to 0.89-1.19 m2, significantly exceeding the indicators under the conventional technology.
URI (Уніфікований ідентифікатор ресурсу): http://rep.btsau.edu.ua/handle/BNAU/15059
УДК: 631.526.32/.53:633.11"324"
Розташовується у зібраннях:Наукові публікації

Файли цього матеріалу:
Файл Опис РозмірФормат 
tezy_agro_stud_1.pdf297,7 kBAdobe PDFПереглянути/Відкрити


Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.